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金相抛光布的种类有着不同用途

作者:天津金相检测科技有限公司 浏览: 发表时间:2021-05-12 15:10:48

  抛光液的首要产品可以按首要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

  ①、多晶金刚石抛光液

  多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为首要成分,配合高分散性配方,可以在坚持高切削率的同时不易对研磨质料产生划伤。

  首要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头号的研磨和抛光。

  ②、氧化硅抛光液

  氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为质料,经特殊工艺出产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

  广泛用于多种资料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体资料砷化镓、磷化铟,精细光学器材、蓝宝石片等的抛光加工。

  ③、氧化铈抛光液

  氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特色。

  适用于高精细光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体外表、集成电路光掩模等方面的精细抛光。

  ④、氧化铝和碳化硅抛光液

  是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,首要成分是微米或亚微米级的磨料。

  首要用于高精细光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

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